PFAS汚染解決に向けた新技術
ビジネスセミナーを企画開催するJPI（日本計画研究所）は、下記セミナーを開催します。
- 開催日時
-
05月29日（木）
13:30～15:30 - 開催方法
- オフライン
- 開催場所
- 東京都
- 参加費
- 1名：37,640円（税込）
2名以降：32,640円(社内・関連会社で同時お申し込みの場合)
※地方公共団体ご所属の方は、2名まで11,000円（税込）
但し、会場受講またはライブ配信受講限定。2名様の受講形態は同一でお願いいたします。
概要
本セミナーでは、半導体ナノ結晶に可視LED光を照射し、PFASの中でも特に分解が困難な
ペルフルオロオクタンスルホン酸（PFOS）およびナフィオンをフッ化物イオンに分解する
技術について詳説いただきます。
PFOSは405 nm LED光を8時間照射で完全脱フッ素化し、ナノ結晶1つあたりC–F結合17,200
本が解離した。ナフィオンも24時間照射で81％脱フッ素化し、可視光下での高い光触媒活性
が示されました。この反応は水和電子と高励起状態を介したオージェ誘起電子注入、光誘起
配位子交換の複合メカニズムによって進行します。
本技術の詳細と今後の展望について議論いただきます。
こんな方におすすめ
◆「エネルギー・環境」業界の方向け
セミナーで得られること
◆フッ素材料の基礎と分解研究
◆半導体ナノ結晶を用いたPFASの可視光分解
セミナー詳細
【講 師】
立命館大学
生命科学部 教授
RARAアソシエイトフェロー 博士(理学）
小林 洋一 氏
【受講方法】
会場受講
ライブ配信
アーカイブ配信
【講義項目】
1. フッ素材料の基礎と分解研究
(1) フッ素を含む有機化合物
(2) フッ素材料の現状
(3) PFAS
(4) PFASの分解方法
2. 半導体ナノ結晶を用いたPFASの可視光分解
(1) 半導体ナノ結晶
(2) 光分解反応
(3) 反応の詳細なメカニズム
3. 今後の展望
4. 関連質疑応答
5. 名刺交換・交流会
セミナー概要
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セミナー名
PFAS汚染解決に向けた新技術
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開催方法
オフライン
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開催場所
〒106-0047
東京都港区南麻布5-2-32興和広尾ビル -
電話番号
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FAX番号
03-5793-9767
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関連タグ
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ホームページ
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カテゴリ
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開催日時
05月29日（木） 13:30～15:30
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参加費
1名：37,640円（税込）
2名以降：32,640円(社内・関連会社で同時お申し込みの場合)
※地方公共団体ご所属の方は、2名まで11,000円（税込）
但し、会場受講またはライブ配信受講限定。2名様の受講形態は同一でお願いいたします。
主催者情報
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株式会社JPI（日本計画研究所）
“「政」と「官」と「民」との知の懸け橋”として国家政策やナショナルプロジェクトの敷衍化を支え、国家知の創造を目指す幹部・上級管理職の事業遂行支援事業。
半世紀にわたり17,000回以上少人数によるプライベートな雰囲気のセミナーを開催。
延べ2万人を超える講師陣が45万人を超える参加者に熱く語り続けてまいりました。
私たちJPI（日本計画研究所）は「新しい時代を切り拓く水先案内人」「羅針盤」であり続けます。
- 開催日時
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05月29日（木）
13:30～15:30 - 開催方法
- オフライン
- 開催場所
- 東京都
- 参加費
- 1名：37,640円（税込）
2名以降：32,640円(社内・関連会社で同時お申し込みの場合)
※地方公共団体ご所属の方は、2名まで11,000円（税込）
但し、会場受講またはライブ配信受講限定。2名様の受講形態は同一でお願いいたします。