DACが拓く新市場
ビジネスセミナーを企画開催するJPI（日本計画研究所）は、下記セミナーを開催します。
- 開催日時
-
08月22日（金）
13:30～15:30 - 開催方法
- オフライン
- 開催場所
- 東京都
- 参加費
- 1名：37,750円（税込）
2名以降：32,750円(社内・関連会社で同時お申し込みの場合)
※地方公共団体ご所属の方は、2名まで11,000円（税込）
但し、会場受講またはライブ配信受講限定。2名様の受講形態は同一でお願いいたします。
概要
2050年でのカーボンニュートラル実現のために、大気中の低濃度二酸化炭素（～430ppm）
を効率よく吸収・回収するDirect Air Capture (DAC)技術の開発が望まれています。
すでに固体吸着材やCa(OH)2を用いたDACプロセスの開発が進められているが、より低エネ
ルギー・低コストで駆動するDAC技術の開発が必要です。
本セミナーでは、世界で開発が進められている低濃度二酸化炭素吸収技術について紹介しつ
つ、当研究室で開発を進めている液固相分離現象をもちいた高速二酸化炭素吸収技術やアミ
ノ基を固定化した固体二酸化炭素吸着剤によるDAC技術の開発状況について詳説いただきま
す。
こんな方におすすめ
◆「エネルギー・環境」業界の方向け
セミナーで得られること
◆カーボンニュートラル・Direct Air Captureについて
◆液固相分離技術によるDirect Air Capture技術の開発
◆アミン修飾シリカを用いた固体吸着剤によるDAC技術の開発
セミナー詳細
【講 師】
東京都立大学大学院
理学研究科 化学専攻 無機化学研究室
教授
山添 誠司 氏
【受講方法】
会場受講
ライブ配信
アーカイブ配信
【講義項目】
1. カーボンニュートラル・Direct Air Captureについて
(1) カーボンニュートラル
(2) 二酸化炭素吸収技術
2. 液固相分離技術によるDirect Air Capture技術の開発
(1) 液固相分離によるDAC技術について
(2) ジアミンを利用した液固相分離によるDAC技術の開発
(3) 固体カルバミン酸からの低エネルギー二酸化炭素脱離技術の開発
3. アミン修飾シリカを用いた固体吸着剤によるDAC技術の開発
(1) 固体吸着剤を利用したDAC技術について
(2) アミン修飾シリカの合成とDACへの応用
4. 今後の展望
5. 関連質疑応答
6. 名刺交換・交流会
セミナー概要
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セミナー名
DACが拓く新市場
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開催方法
オフライン
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開催場所
〒106-0047
東京都港区南麻布5-2-32興和広尾ビル -
電話番号
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FAX番号
03-5793-9767
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関連タグ
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ホームページ
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カテゴリ
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開催日時
08月22日（金） 13:30～15:30
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参加費
1名：37,750円（税込）
2名以降：32,750円(社内・関連会社で同時お申し込みの場合)
※地方公共団体ご所属の方は、2名まで11,000円（税込）
但し、会場受講またはライブ配信受講限定。2名様の受講形態は同一でお願いいたします。
主催者情報
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株式会社JPI（日本計画研究所）
“「政」と「官」と「民」との知の懸け橋”として国家政策やナショナルプロジェクトの敷衍化を支え、国家知の創造を目指す幹部・上級管理職の事業遂行支援事業。
半世紀にわたり17,000回以上少人数によるプライベートな雰囲気のセミナーを開催。
延べ2万人を超える講師陣が45万人を超える参加者に熱く語り続けてまいりました。
私たちJPI（日本計画研究所）は「新しい時代を切り拓く水先案内人」「羅針盤」であり続けます。
- 開催日時
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08月22日（金）
13:30～15:30 - 開催方法
- オフライン
- 開催場所
- 東京都
- 参加費
- 1名：37,750円（税込）
2名以降：32,750円(社内・関連会社で同時お申し込みの場合)
※地方公共団体ご所属の方は、2名まで11,000円（税込）
但し、会場受講またはライブ配信受講限定。2名様の受講形態は同一でお願いいたします。